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小型開啟式管式爐在真空壓力下，加在電感線圈的射頻電場，使反應室氣體發生輝光放電，在輝光發電區域產生大量的電子。這些電子在電場的作用下獲得充足的能量，其本身溫度很高，它與氣體分子相碰撞，使氣體分子活化。它們吸附在襯底上，并發生化學反應生成介質膜，副產物從襯底上解吸，隨主氣流由真空泵抽走，稱為等離子體增強化學氣相沉(PECVD)。
1400℃雙溫區精密真空管式爐采用智能化程序溫控系統，可控硅控制，以優質硅碳棒為加熱元件，采用智能化控溫系統，可控硅控制，控溫精度高；內置兩個溫區，可營造不同的溫度梯度。
1400℃三溫區管式爐采用智能化程序溫控系統，可控硅控制，控溫精度高；高真空級法蘭密封，以優質硅碳棒為加熱元件，采用智能化控溫系統，可控硅控制，控溫精度高
CVD管式爐 高溫電爐集真空管式爐，多通道氣路系統和真空系統組成，性能可靠。控制電路選用模糊PID程控技術，具有控溫精度高，溫沖幅度小，性能可靠，簡單易操作等特點。
1200℃小型真空管式爐-管式高溫爐采用智能化程序控溫系統，可控硅控制，控溫精度高；雙層殼體結構，設計合理，外形美觀，結構緊湊；雙層爐殼間配有風冷系統，有效保證外殼表面溫度。用于在真空或是氣氛保護環境下的材料燒結試驗。
高溫管式電阻爐主要用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、特種材料、建材、高校、科研院所、工礦企業做粉末焙燒、陶瓷燒結、高溫實驗、材料處理、質高校、科研院所、工礦企業做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、真空退火等。
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